Technologie TFT byla vyvinuta v 90. letech. Přijímá nové materiály a nové procesy pro technologii výroby velkých integrovaných obvodů polovodičových polovodičů. Používá se pro ploché panely s tekutými krystaly (LC), anorganické a organické elektroluminiscence v tenkém filmu (EL a OEL). základ. TFT je nejednotná destička, jako je skleněný nebo plastový substrát (samozřejmě může být také na destičce), a to naprašováním a chemickým nanášením za vzniku různých fólií nezbytných pro výrobu obvodů a integrovaných obvodů velkého rozsahu polovodičů ) jsou vyráběny zpracováním fólií. . Použití podkladů, které nejsou monokrystalické, může výrazně snížit náklady a je rozšířením tradičních integrovaných obvodů velkého rozsahu do velkoplošných, multifunkčních a nízkonákladových směrů. Je technicky obtížnější vyrábět TFT, které řídí spínací výkon pixelů (LC nebo OLED) na velkoplošných skleněných nebo plastových substrátech, než vyrábět velkoplošné integrované obvody na křemíkových destičkách. Požadavky na produkční prostředí (stupeň čištění je 100), požadavky na čistotu surovin (čistota elektronického speciálního plynu je 99,999985%) a požadavky na výrobní zařízení a výrobní technologii přesahují rozsáhlou integraci polovodičů . Jedná se o vrchol moderní velkovýroby. technologie. Jeho hlavní rysy jsou:
(1) Velká plocha: První generace velkoplošného skleněného substrátu (300 mm × 400 mm), výrobní linka TFT-LCD, byla uvedena do výroby počátkem 90. let. V první polovině roku 2000 byla plocha skleněného substrátu rozšířena na 680 mm × 880 mm) a velikost skleněného substrátu byla 950 mm × 1200 mm. Rovněž bude uveden do provozu skleněný substrát. V zásadě neexistuje žádné omezení oblasti.
(2) Vysoká integrace: 1,3palcový TFT čip používaný pro projekci z tekutých krystalů má rozlišení XGA obsahující miliony pixelů. Tloušťka filmu 16,1-palcového TFT pole amorfního křemíku s rozlišením SXGA (1280 × 1024) je pouze 50 nm a technologie TAB ON GLASS a SYSTEM ON GLASS, integrace jeho IC, požadavky na zařízení a napájecí technologii a technické potíže Všechny překračují tradiční LSI.
(3) Výkonné funkce: TFT byl poprvé použit jako obvod pro umístění matice ke zlepšení charakteristik světelných chlopní kapalných krystalů. U displejů s vysokým rozlišením je pomocí regulace napětí v rozsahu 0-6 V (obvykle 0,2 až 4 V) dosaženo přesné kontroly nad objektem, což umožňuje LCD displejům dosáhnout vysoce kvalitních displejů a displejů s vysokým rozlišením. TFT-LCD je první plochý displej v lidské historii, který přesahuje CRT v kvalitě zobrazení. A lidé začnou integrovat integrovaný obvod ovladače na skleněný substrát a funkce celého TFT bude výkonnější, což se tradičním rozsáhlým polovodičovým integrovaným obvodům nevyrovná.
(4) Nízké náklady: Skleněný substrát a plastový substrát zásadně řeší problém nákladů u velkých polovodičových integrovaných obvodů a otevírají široký aplikační prostor pro použití velkých polovodičových integrovaných obvodů.
